VCSEL的優勢
VCSEL技術提供的諸多優勢可以歸納為以下幾點：
1.波長穩定性：在一個VCSEL激射波長非常穩定，因為它是由短期（1--1.5波長厚）法布里 - 珀羅腔固定。邊緣發射器相反，VCSEL的只能運行在一個單一的縱向模式。
2.波長均勻性和譜寬：生長技術改善了不到一個腔波長為2nm的標準偏差，這樣的VCSEL 3“晶圓生產。這允許制造的VCSEL 2 - D數組數組的元素（<1nm的全寬半高譜寬）之間的小波長變化。相比之下，邊發射欄棧遭受顯著波長的變化，從酒吧吧，因為沒有內在機制，以穩定的波長，在很寬的譜寬（3--5nm的FWHM），。
3.波長的溫度靈敏度：在VCSEL的發射波長不敏感的溫度變化比邊緣發射器？5倍。原因是在VCSEL的激光波長是由單縱模腔的光學厚度和定義，這種光學厚度與溫度的關系是最小的（腔的折射率和物理厚度有一個微弱的依賴溫度）。另一方面，在邊緣發射器的激光波長被定義為峰值增益波長，其中有一個對溫度的依賴性更強。因此，高功率陣列（加熱和溫度梯度，可以顯著）的譜線寬度是VCSEL陣列窄于邊緣發射陣列（酒吧堆棧）。此外，超過20℃的溫度變化，在VCSEL的發射波長會有所不同（7nm邊緣發射器相比）小于#p#分頁標題#e#1.4nm。
4.高溫作業（泵的chillerless操作）：由于VCSEL的可以可靠地工作在溫度高達80℃，就可以操作無需冷藏。因此，冷卻系統就變得非常小，堅固耐用，這種方法移植。
5. 單位面積高功率：邊緣發射器提供最多約500W/cm2，而VCSEL的提供1200W /平方厘米，在不久的將來可以提供2 - 4KW /平方厘米。
6.光束質量：垂直腔面發射激光器發出通告束。通過適當的腔設計的VCSEL也可以在一個單一的橫向模式（圓形高斯）發出。這種簡支梁結構，大大降低了耦合/光束整形光學（邊緣發射器相比）的復雜性和成本，提高了耦合效率光纖或輸送介質。這一直是在低功耗市場的VCSEL技術的關鍵賣點。
7.可靠性：由于VCSEL的不受災難性的光學損傷（COD），其可靠性比邊緣發射器高得多。典型的擬合值的VCSEL（一億美元的設備出現故障）<10。
8.Manufacturabilty和產量：可生產的VCSEL已經為這項技術的關鍵賣點。由于復雜的制造工藝和COD（災難性的光損傷），邊緣發射器有一個低收益率（邊緣發射980納米泵的芯片制造商相關的可靠性問題，通常只得到#p#分頁標題#e#2“晶圓-500芯片）。另一方面，對VCSEL的收益率超過90％（相當于5000大功率芯片從2英寸晶圓）。事實上，由于其平面屬性，VCSEL的制造標準的IC芯片處理相同。
9.可擴展性：對于高功率應用中，一個關鍵的VCSEL優勢是，他們可以直接加工成單片的2 - D陣列，而這不是邊緣發射器（可能只有一維的單片陣列）的可能。此外，一個復雜的熱效率低下的安裝計劃是需要安裝在棧邊發射極棒。
10.包裝和散熱：安裝的大型高功率VCSEL 2 - D的一個“結點”配置陣列很簡單（類似微處理器包裝），熱搬遷過程中非常有效的，因為熱遍歷砷化鋁鎵材料只有幾微米。已被證明5毫米的2 - D VCSEL陣列的5mm x <0.16K / W的創紀錄的熱阻抗。
11.成本：隨著簡單加工和散熱技術，它比同等的邊緣發射的酒吧棧封裝的2 - D VCSEL陣列變得更加容易。建立現有硅業的散熱技術，可用于非常高功率陣列的散熱。這將顯著降低高功率模塊的成本。目前，激光棒的成本是DPSS激光器顯性成本。
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