近日，半導體光刻光源的主要生產廠商Gigaphoton株式會社宣布，自2019年2月開始出產最大輸出級200W加工裝置用KrF激光器G200K。
2016年，Gigaphoton宣布其利用自身長期以來在半導體光刻領域積累的技術實力成功開發出了可靠性較高的準分子激光器“GIGANEX”系列產品，第一代產品公布了面向FPD制造退火工序的KrF激光器GT600K。
此次發布的加工裝置用KrF激光器GT200K是該系列第二代產品。G200K最大輸出功率達200W，采用Gigaphoton的激光性能穩定技術和模塊壽命延長技術實現高可靠性，有望成為滿足客戶需求的加工裝置用激光器。
Gigaphoton的董事長兼總經理浦中克己表示：“公司的‘GIGANEX’秉持將在半導體光刻用準分子激光器領域長期積累的技術應用到其他領域的理念研制而成，已形成系列化產品。此次推出第二代產品G200K，擴大了產品陣容。公司今后將繼續提供‘GIGANEX’的解決方案，為產業界做出廣泛貢獻。”
2016年，Gigaphoton宣布其利用自身長期以來在半導體光刻領域積累的技術實力成功開發出了可靠性較高的準分子激光器“GIGANEX”系列產品，第一代產品公布了面向FPD制造退火工序的KrF激光器GT600K。
此次發布的加工裝置用KrF激光器GT200K是該系列第二代產品。G200K最大輸出功率達200W，采用Gigaphoton的激光性能穩定技術和模塊壽命延長技術實現高可靠性，有望成為滿足客戶需求的加工裝置用激光器。
Gigaphoton的董事長兼總經理浦中克己表示：“公司的‘GIGANEX’秉持將在半導體光刻用準分子激光器領域長期積累的技術應用到其他領域的理念研制而成，已形成系列化產品。此次推出第二代產品G200K，擴大了產品陣容。公司今后將繼續提供‘GIGANEX’的解決方案，為產業界做出廣泛貢獻。”
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