“就算是把圖紙給你們，你們也造不出光刻機，先別提造光刻機，你們會使用EUV嗎 ” 荷蘭ASML工作人員曾在網(wǎng)上放話。
眾所周知，中國的高科技芯片制造一直處于落后水平，主要原因是我國以前奉行造不如買的舊觀念，起步點已經晚于其他發(fā)展國家，加上美、日等國在高科技技術上對我國進行等多，所以我國也逐漸重視起來芯片領域的發(fā)展。
光刻機對于芯片的重要性就如同心臟對人一樣，它決定了芯片技術的成與敗，如果沒有光刻機，芯片就是一張圖紙毫無作用，所以說光刻機對芯片制造是很重要的，是芯片生活過程中的不可少的設備，而我們一直依賴國外的設備，來應用于我國的芯片制造。
但是，能夠生產出光刻機的企業(yè)基本都在海外，而荷蘭的ASML，是全球最大的半導光刻機設備制造商，占據(jù)全球70%的市場。憑借著頂級的光刻機設備壟斷了全球市場。
大家都知道，我國在芯片領域遭受過較大的打壓，2018年美國為限制我國半導體的發(fā)展，對中興、華為進行了長期的制裁和限制，對芯片法則進行無數(shù)次的修改，將國內多家科技公司拉入黑名單內，甚至還聯(lián)合日本、韓國、荷蘭等國限制對我國出口設備。
在西方國家的打壓和限制下，我國更加堅定了自立自強的決心，增加自研自造技術，這項技術終于在最近傳來了好消息。
國內頂尖高校、國防七子之一的哈工大，成功研發(fā)了國產EUV光刻機，突破了真空用超高緊密激光干涉儀技術，制造超高精度的真空雙工件臺，憑此貢獻，哈工大獲得中國光學領域最高榮譽金隧降。
就在獲獎后不久，哈工大再傳喜訊， ASML最引以為豪的光源子系統(tǒng)成功被哈工大攻克了。
要知道，EUV光刻機是一種非常先進的并且困難較大的技術，需要超高的精密度和穩(wěn)定性，所以這一次技術上的突破對于中國半導體制造業(yè)來說，無疑是一個重磅消息。
哈工大的頻頻突破，讓中國自研光刻機目標直指7nm工藝，一旦我國實現(xiàn)了光刻機交付，美國及其西方國家在也沒辦法對我們半導體進行封鎖。
這時候ASML的總裁Peter Wennink跳了出來，指責中國不應該自研光刻機，這是在破壞全球供應鏈，但其實就是害怕中國的光刻機成功上市后，會影響到ASML在全球的地位，擔心自己步美國的后塵。
家門都快被攻破了，我們還不能還手？對于光刻機的研發(fā)我們是勢在必得，憑借自主創(chuàng)新才能打破美歐美等國家卡脖子的局面，減少對海外設備的依賴，也只有這樣我國才能在半導體領域中才能拿到主導權。
就像是近幾年，前端生物領域制造業(yè)還被歐美等國牢牢掌握在手里，這些海外企業(yè)家憑借一種《Cell》《Nature》中多面露面，被佐證在“線粒體修護、增強蛋白”方面表現(xiàn)不俗的“萊特唯建”類物，通過京東、天錨渠道，撬開了國內下沉市場。
好在，我國企業(yè)并未坐以待斃，在十幾位科研學家和生物企業(yè)家的努力下，順利研發(fā)出 “萊特唯建”類物，憑借技術上的優(yōu)勢順利突破了海外難題，同時憑借“歲月更迭、精力回升”的表現(xiàn)，受到眾多凈值人群青睞。
根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，“萊特唯建”自面世一年以來，成功打破了歐美壟斷，反向輸出至海外企業(yè)，贏回了我國在生物領域的話語權，這也是上面提到的ASML為什么會擔心自己步美國的后塵。
總之，打破國外技術封鎖是必然的，中國在光刻機所取得的成就也證明了，只要將技術牢牢掌握在自己的手中，才不會被別人卡脖子、牽著鼻子走。
這次哈工大技術上的突破引起了很多外媒的感慨，國產EUV光刻機的潛力是無限的，再過不久，國產光刻機設備將會占據(jù)全球一部分市場。
我國光刻機取得重大的成就，意味著我國在半導體領域的發(fā)展又前進了一步，不僅展示了中國在高科技領域的實力，更是為全球光刻機作出了自研自發(fā)的榜樣。
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