德國工業激光器通快公司投資7000萬歐元建設一幢新大樓，供工程師為半導體芯片制造商開發新一代極紫外(EUV)光刻設備所需的超高功率激光器。
在產生極紫外光的各種光刻工具里，激光器發揮重要作用。高度復雜和昂貴系統的商業部署多年以來遭到拖延并一直受到極大懷疑。然而，ASML公司在4月份宣布15臺系統的大訂單似乎確認了EUV光刻的可行性，而且這家荷蘭公司的最新預測表明明年會部署12臺，到2017年部署24臺，2018年部署48臺。
通快公司說建造面積達34000平方米的場地將花費兩年時間，半導體制造子公司為專門的激光器系統開始生產超大放大器之后將串聯四臺大功率激光器。
“我們正在開發生產獨特而復雜的激光系統，而且在德國提供高科技工作。”據說7000萬歐元投資包括建設成本以及超潔凈要求很高的帶有自動化功能的復雜樓宇。多層廠房包括生產區、無塵室和設備檢測區域，同時相鄰的辦公大樓還有270個工作崗位。
通快公司最新年度報告中明確列出了EUV光源的復雜度，該公司指出隨著峰值功率超過兆瓦，向錫滴打靶的重復頻率達到50000Hz是必要的。激光器要以極高的精確度擊中錫滴，要確保EUV光源功率足夠穩定才能滿足ASML芯片制造客戶的苛刻要求，像英特爾，三星和臺積電代工廠。德國公司把這種挑戰比擬成“高科技野外飛靶射擊”。
公司還描述了如何將幾臺13kW CO2激光器串聯接通達到所需的功率要求，最終從等離子體源產生100W的EUV光輸出。高科技產生極紫外光的過程非常低效，過去被人們比擬為“用核反應堆提供動力”，但也成為了滿足半導體工業批量生產要求擴展EUV輸出功率的唯一可行方式。
通快公司是唯一一家能夠供應支撐EUV用激光器的廠商，如果按ASML預言的發展商業前景利潤豐厚。在2013-2014財政年度，通快公司稱EUV應用已經遠遠超過8.41億歐元銷售額的10%。
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