9月9日，德國聯(lián)邦總統(tǒng)辦公室在慕尼黑德意志博物館榮譽殿堂宣布了2020年德國未來獎提名人。聯(lián)邦總統(tǒng)技術與創(chuàng)新獎最后一輪項目是通快、蔡司和弗勞恩霍夫應用光學與精密機械研究所的專家團隊的項目“EUV光刻-數(shù)字時代的新光”。
世界上唯一的EUV光刻機制造商是荷蘭ASML公司，該公司作為集成商設計了整個系統(tǒng)的體系結(jié)構，尤其是EUV源。這些機器的關鍵部件是通快的EUV光源高性能激光器和蔡司的光學系統(tǒng)。EUV代表“極紫外線”，即具有極短波長的光。借助這項技術，可以生產(chǎn)出比以往任何時候都更強大、更節(jié)能和更具成本效益的微芯片。如果不繼續(xù)保持強勁的計算能力，就不會成功實現(xiàn)數(shù)字化。最新一代芯片的制造過程是基于EUV燈的使用，它克服了以前在技術上可行的限制。從光源到真空中的光學系統(tǒng)再到所用反射鏡的表面涂層，實際上，整個曝光技術都必須從頭開始開發(fā)。
來自三家機構的三名候選人為EUV技術的開發(fā)和工業(yè)批量生產(chǎn)做出了重大貢獻，獲得了2000多項專利保護的未來技術。
通快副總裁兼首席技術官Peter Leibinger：“對于德國未來獎的提名，我們感到非常高興。這再次證實了EUV技術的全球潛力。得益于與蔡司、弗勞恩霍夫和荷蘭技術集團ASML的合作，我們得以在這項未來技術上與來自日本和美國的德國和歐洲競爭對手競爭。世界上最好的制造微芯片的機器來自歐洲，這是我們共同撰寫的非凡故事。這種獨特合作成功的關鍵是相互信任和毅力。”
借助世界上最強大的脈沖工業(yè)激光器，通快為每個現(xiàn)代智能手機中使用的最現(xiàn)代微芯片的曝光提供了關鍵組件。除了產(chǎn)生雷射平版印刷術所需的光之外，沒有其他經(jīng)濟的替代方法。Leibinger：“只有通快可以制造EUV光刻所需的激光器。沒有這些激光器，諸如人工智能或自動駕駛之類的未來技術將無法實現(xiàn)，因為它們需要大量的計算能力。激光60周年的德國未來獎提名再次強調(diào)了這種工具對于德國作為工業(yè)基地的重要性。”
“與我們的合作伙伴一起，我們對提名感到非常高興，該提名表彰了一項極其復雜的開發(fā)工作，并將其轉(zhuǎn)化為主導世界市場的技術。” 蔡司集團執(zhí)行董事會成員兼半導體制造技術部門負責人Markus Weber說，“蔡司代表最高的光學性能和精度。這在芯片生產(chǎn)中一直很重要。EUV技術及其在真空中操作的反射鏡光學器件是一項飛躍性的創(chuàng)新，需要同等的創(chuàng)造力和持久性，才能從構思到今天的系列使用。照明系統(tǒng)的質(zhì)量和形狀以及投影光學系統(tǒng)的分辨率決定了微芯片上的微小結(jié)構。EUV繼續(xù)推動商業(yè)和社會數(shù)字化領域的巨大進步。”
由于即使最小的不規(guī)則性也會導致圖像錯誤，弗勞恩霍夫（Fraunhofer）是鏡子精密鍍膜技術的重要研究伙伴，為EUV光刻技術開發(fā)了世界上“最精確”的反射鏡。“Fraunhofer是半導體技術的先驅(qū)之一。我們在我們的研究所和設施中研究EUV光刻技術已有三十年了”。Fraunhofer-Gesellschaft總裁Reimund Neugebauer教授解釋說，“我們的研究人員在首批EUV反射鏡和光束源的開發(fā)中發(fā)揮了關鍵作用，從而為該技術的突破奠定了基礎。由于科學與工業(yè)之間的長期緊密合作，現(xiàn)已在全球范圍內(nèi)實現(xiàn)了在這一創(chuàng)新領域的廣泛應用的飛躍。EUV光刻技術是通過合作、研究精神和可持續(xù)承諾實現(xiàn)技術和經(jīng)濟附加值的杰出例子。”
自1997年以來，每年都會頒發(fā)“德國未來獎”，這是德國最重要的科學獎項之一。它表彰可產(chǎn)生現(xiàn)成產(chǎn)品的杰出技術、工程和科學成就。在一個多階段的過程中，德國未來獎的頂級評審團從眾多項目中選出了三個研究團隊及其創(chuàng)新，以作為最后一輪“最佳圈子”獎。除創(chuàng)新表現(xiàn)外，評審團還評估發(fā)展的經(jīng)濟和社會潛力。
關鍵詞：德國未來獎;通快;弗勞恩霍夫
原文鏈接：https://www.fraunhofer.de/de/presse/presseinformationen/2020/september/deutscher-zukunftspreis-euv.html
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