日前，中國科學院寧波材料技術與工程研究所科研人員開發出一種超黑高穩定性的光吸收涂層技術，可應用于抑制光學器件中雜散光的干擾、提高太陽能光熱轉化效率等領域。
該涂層采用物理氣相沉積技術，可在金屬、陶瓷、高分子等絕大多數常用材料表面涂覆，甚至可以在柔性高分子薄膜表面涂覆，涂層結合力高，涂層的物理化學性能穩定、硬度高。
該涂層技術由中科院寧波材料所表面防護課題組研發完成，涂層為TiAlN三元陶瓷，在波長200nm到2500nm范圍內的光吸收系數超過95%，覆蓋近紅外、可見光以及紫外，在現有陶瓷光吸收涂層中波長范圍最寬、吸收率最高，但制備方法卻非常簡單。該涂層具有精巧的納米結構，底層為層狀結構，有利于提高其在各種基體材料上的附著力；中部為柱狀結構，柱狀界面可多次反射吸收光的能量；頂部為錐形結構，有利于入射光的導入。由于該涂層制備成本低，物理化學性能非常穩定，未來可在光學儀器雜散光控制、能量轉換等領域廣泛應用。
該工作成果發表在Journal of Materials Chemistry C, 2018,6, 8646-8662，Solar Energy, 2016, 138, 1–9。該技術已經申報發明專利2項（CN201210063873.8，DD180138I）。
TEM和SEM下超黑光吸收涂層的結構
涂覆在柔性高分子材料表面的超黑光吸收涂層
JMC C 對該工作的亮點報道
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