光刻機是制作高精度掩模版的關鍵設備。使用極細的激光光束，在極其精密自動控制系統控制下于掩模版基材上繪制出高精密線路圖形。激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料（光刻膠）實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫光刻系統的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設計的任意圖形，從而把設計圖形直接轉移到掩模上。激光直寫光刻機是一種用于物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器，該設備是基于空間光調制器的直寫光刻設備，用于制作光刻掩膜。傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
2022年全球激光直寫光刻設備市場規模達到了113.42百萬美元，預計2029年將達到160.25百萬美元，2023-2029年復合增長率（CAGR）為5.21%。
地區層面來看，中國市場在過去幾年變化較快，2022年市場規模為17.32百萬美元，約占全球的15.27%，預計未來幾年增長較快，預計2029年將達到28.68百萬美元，2023-2029年復合增長率（CAGR）為7.91%，屆時全球占比將達到17.89%。從產品類型及技術方面來看，2022年2D系統銷量占據92.14%的比例，2022年銷量為213臺，預計2029年為328臺。3D系統預計銷量增速較快，3D系統2022年銷量為18臺，預計2029年為35臺。市場規模上看，2022年2D系統全球市場規模為101.20百萬美元，3D系統全球市場規模為12.22百萬美元。價格上看，2022年2D系統銷售均價為475千美元每臺，3D系統銷售均價為673千美元每臺，2022年激光直寫光刻設備均價為491千美元每臺。預計未來激光直寫光刻設備價格將呈現下降趨勢，預計2029年2D系統單價為423千美元每臺，3D系統單價為621千美元每臺，兩種類型激光直寫光刻設備價格均下降，但3D系統價格下降幅度相較之下略小。從產品市場應用情況來看，用于掩膜版制造的激光直寫光刻設備2022年銷售收入為35.25百萬美元，占比最高，其次是IC封裝、FPD制造、微機電和其他應用，分別為28.41 、25.84 、6.99 和16.93百萬美元，預計2029年這些應用端銷售收入分別為39.89 、35.61 、9.84 和24.45百萬美元，其中微機電和其他應用（如生物醫學、微制造等）增長較快，年復合增長率（CAGR）分別為5.53%和5.49%。目前全球主要廠商包括Heidelberg Instruments、Raith (4PICO Litho)、Mycronic、Ushio Inc.和SCREEN Holdings等，2022年前五大廠商銷售收入為65.12百萬美元，份額占比達到57.41%，預計未來幾年行業競爭將更加激烈，尤其在中國市場。總體來看，該行業屬于典型的技術密集型行業，資本投入大、研發周期長、人才稀缺都是其典型特點。從行業發展來說，激光直寫光刻設備當前趨勢較好，且替代掩膜版光刻設備優勢大，市場空間較大。在國家層面而言，歐洲、日本、中國等是主要的生產國。從中國激光直寫光刻設備廠商發展而言，技術積累、人才儲備、客戶資源積累、銷售渠道拓展和自身宣傳等都是企業發展重要的影響因素，此外，企業也需要對上下游市場現狀有充分認識，如下游半導體、PCB等行業景氣度變化等因素，將是影響企業收入和利潤的重要因素。
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