近些年，隨著5G、物聯網時代的開啟，全球半導體產業再度迎來了一波高速發展期。
要想占據5G和物聯網的制高點，那么首要解決的就是芯片問題。而要造出高端的芯片，得先解決光刻機難題。
世人皆知，全球知名的光刻機公司是在荷蘭。由于在美國的禁令之下，短期內，我們無法獲得荷蘭的高端光刻機。
那么問題來了，即便眼下處于困境之中，國內的一眾科技公司依然在全力發展半導體產業，這是國人們看到了高端科技自主化的曙光！
此前有媒體爆料，中科院已成功推出了5nm光刻技術。為此獲得了網友們的一致好評
春公子發現，很多網友都認為中科院推出的5nm光刻技術一出來，那么高端光刻機的問題就會“迎刃而解”？其實不然。
首先，光刻和光刻機肯定不會是一回事，光刻只是一項技術，而光刻機是一項成熟的產品。
《財經》新媒體采訪了論文的通訊作者劉前后作了報道，劉前強調：“不用EUV光刻機就能造成5nm芯片是個誤讀”。
但是，中科院的這項5nm激光光刻研究是很激動人心的，畢竟這是屬于我國的技術。
另外，這次的研究使用的設備是我國獨立開發的，就是說有自主專利，將來如果試產成功，那么就不再受制于其他的國家了。
但有必要一說的是，荷蘭ASML的光刻機技術，可以說是全球最先進的水平，也是之前投入了大量的資金研發得來的成果，在這個領域，中國與它之間，還有很遠的距離，所以，規劃的時間也是2030年，也就是10年后。
我們得知道ASML的成功，不僅僅是因為光刻機技術，而是全球化大生產的結果，在光刻機的80000個零部件中，荷蘭的ASML光刻機是有多國技術的綜合體，例如德國提供了特別先進的機械工藝，還有世界級的蔡司鏡頭。美國提供了光源，正是來自先進技術的提供，使得ASML公司在光科技術方面突飛猛進的發展！
春公子和大家一樣，非常期望看到早日能解決光刻機的問題。但我們也需要更冷靜，更理智的思考。
目前高端芯片從研發出來，到保證優良率，再到量產都是需要較長時間的。所以在一定的時間內還是需要依靠荷蘭的ASML光刻機。
真的要實現芯片技術「彎道超車」，就必須繼續重視芯片領域，做好產學研結合，加大產業化環境建設，提高科研人員待遇。不知道諸位怎么看？
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