利弗莫爾正研發著陣列式裝置為目前在捷克布拉格的物理研究所搭建的“極光束線”(ELI)的重要組成部分，其總峰值功率3.2MW，將在2017年成為高重復頻率先進拍瓦激光系統的一員。該裝置用于先進成像，粒子加速，生物物理，化學以及量子物理，國家安全及激光聚變等領域。
HAPLS將產生脈寬為30fs，重頻為10Hz，峰值功率大于1拍瓦的激光脈沖。重頻是當前裝置的主要進步，二極管陣列每秒鐘將激發10次，為終端功率放大器產生近千焦耳的能量。為滿足HAPLS的嚴格設計需求，參考利弗莫爾國家點火裝置，其采用的閃光燈技術為泵浦大型激光玻璃片中的原子。為達到HAPLS上的高重復頻率，相關團隊需達到如下技術：比閃光燈傳遞的熱量低，在更高頻率下將其轉移。這樣將縮短激光槍次間的差異。
HALPS系統架構師Andy Bayramian博士表示：“激光閃光燈技術已經發展 50年了，我們幾乎超越這項技術的極限。”“我們已經翻過了這一頁，而采用激光二極管陣列開始新的篇章，致力于研究更先進的高能激光系統”。
新型脈沖功率系統
為研發這些二極管陣列，利弗莫爾與Lasertel Inc相互合作。Lasertel將先進的半導體激光技術與新穎的微光學組件結合，以此在更加可信賴的集成平臺上提供兆瓦量級的泵浦模塊。
二極管陣列總功率3.2MW-世界峰值功率最高的陣列
Lasertel負責人Mark McElhinney表示：“我們的合作將為激光的運行提供新的標桿，這確定了高能激光系統向商業應用以及開創性科研的重要一步。”此外利弗莫爾需發展一套完全新型的脈沖式系統以此驅動二極管陣列。同時，Northrop Grumman Cutting Edge Optronics近期安裝另一個組件，焦耳量級，注入種子源，二極管泵浦固態激光系統，這將成為HAPLS上高能太瓦放大級的種子源之一。Gigashot-HE包含四個激光脈沖模塊，振蕩器，預放大級，兩個功率放大，從3~18mm直徑范圍上放射狀排布泵浦Nd：YAG晶體。該系統輸出兩焦耳的532nm，10納秒以下的脈沖，重頻為10Hz，近場為平頂狀的光束。
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