近日，西安光機所新型干涉光譜成像技術研究取得重大進展，研究團隊在國內率先將離軸三反光學系統應用于短波紅外干涉光譜成像系統中，并成功研制了基于M-Z像面干涉光譜成像的離軸三反桌面樣機系統。
面向寬覆蓋、高分辨率、高光譜分辨率的要求，離軸三反加M-Z像面干涉光譜成像技術可以有效解決大視場光學系統和大尺寸干涉儀的技術瓶頸。M-Z干涉儀放置在系統會聚光路中，在減小系統體積和重量的同時，能量利用率可以達到成像儀的極限;離軸三反光學系統則能夠同時實現長焦距與大視場，并且沒有中心遮攔，傳遞函數高。但在基于M-Z像面干涉的光譜成像系統中，離軸全反射系統難以補償會聚光路中M-Z干涉儀棱鏡元件所引入的像差，為此，科研人員將校正補償系統應用到離軸三反系統中，設計并成功研制了一種新型離軸三反成像光學系統，并針對離軸三反系統裝調自由度多，結構非對稱性以及離軸系統離軸量需要精確測量調整等問題，解決了離軸非球面微應力裝夾、多自由度調整結構形式、離軸三反系統高精度裝調等多項技術難點，為高分辨率、高光譜分辨率光譜成像技術奠定了堅實基礎，并完成了必要的技術儲備，使該先進光譜成像技術達到了國內領先水平。
轉載請注明出處。
相關文章
熱門資訊
精彩導讀
關注我們
