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中國微米納米技術學會消息顯示，近日，中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子旸研究員與國家納米中心劉前研究員合作，在Nano Letters上發表了研究論文，報道了一種他們開發的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。

據悉，研究團隊設計開發了一種新型三層堆疊薄膜結構。在無機鈦膜光刻膠上，采用雙激光束交疊技術，通過精確控制能量密度及步長，實現了1/55衍射極限的突破，達到了最小5 nm的特征線寬。

圖片來源：中國微米納米技術學會

此外，研究團隊利用這種超分辨的激光直寫技術，實現了納米狹縫電極陣列結構的大規模制備。同時，該團隊還利用發展的新技術制備出了納米狹縫電極為基本結構的多維度可調的電控納米SERS傳感器。

值得一提的是，研究團隊所開發的具有完全知識產權的激光直寫設備，利用了激光與物質的非線性相互作用來提高加工分辨率，其有別于傳統的縮短激光波長或增大數值孔徑的技術路徑；并打破了傳統激光直寫技術中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，極大地擴展了激光直寫的應用場景。

目前，該工作得到了國家重點研究計劃項目、國家自然科學基金、Eu-FP7項目、中國博士后科學基金的支持。