洗凈液CMP1400S
特性與賣點(diǎn)：高PH值，有效去除有機(jī)和無(wú)機(jī)微粒、低泡、易漂洗，極低金屬離子含量。太陽(yáng)能晶園研磨后的油脂，研磨拋光劑，無(wú)機(jī)粉塵，適合半導(dǎo)體回路制造、半導(dǎo)體組件、光刻膠顯影后、CMP前后處理、CVD前后處理洗凈液。
使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度：3-30%
包 裝：20L/桶
洗凈液CMP1406
特性與賣點(diǎn)：高PH值，藍(lán)寶石洗凈液，晶園研磨后表面所附著油脂，蠟，研磨拋光劑與粉塵，洗凈力佳，螯和力強(qiáng)，低泡易生物分解，低COD，螯合分解力強(qiáng)，低殘留，易漂洗，耐硬水。
使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度：3-30%
包 裝：20L/桶
