星之球激光 來源：光電社區(qū)2011-08-06
我要評論(0 )
(1)濺漿沉積：濺鍍是利用高速的離子撞擊固體靶材，使表面分子濺離并射到基材鍍成一層薄膜，濺射 離子的起始動能約在100eV。常用的電漿氣體為氬氣，質(zhì)量適當(dāng)而且沒有化學(xué)...
(1)濺漿沉積：濺鍍是利用高速的離子撞擊固體靶材，使表面分子濺離并射到基材鍍成一層薄膜，濺射
離子的起始動能約在100eV。常用的電漿氣體為氬氣，質(zhì)量適當(dāng)而且沒有化學(xué)反應(yīng)。
(2)電漿輔助化沉積：氣相化學(xué)沉積的化學(xué)反應(yīng)是在高溫基材上進(jìn)行，如此才能使氣體前置物獲得足夠
的能量反應(yīng)。
(3)電漿聚合：聚合物或塑料薄膜最簡單的披覆技術(shù)就是將其溶劑中，然后涂布于基板上。電漿聚合涂
布法系將分子單體激發(fā)成電漿，經(jīng)化學(xué)反應(yīng)后形成一致密的聚合體并披覆在基板上，由于基材受到電
漿的撞擊，其附著性也很強(qiáng)。
(4)電漿蝕刻：濕式堿性蝕刻，這是最簡單而且便宜的方法，它的缺點是堿性蝕刻具晶面方向性，而且
會產(chǎn)生下蝕的問題。
(5)電漿噴覆：在高溫下運轉(zhuǎn)的金屬組件須要有陶瓷物披覆，以防止高溫腐蝕的發(fā)生
轉(zhuǎn)載請注明出處。
① 凡本網(wǎng)未注明其他出處的作品，版權(quán)均屬于激光制造網(wǎng)，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用。獲本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使
用，并注明"來源:激光制造網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)責(zé)任。
② 凡本網(wǎng)注明其他來源的作品及圖片，均轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不代表本媒贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)，版權(quán)歸原作者所有，如有侵權(quán)請聯(lián)系我們刪除。
③ 任何單位或個人認(rèn)為本網(wǎng)內(nèi)容可能涉嫌侵犯其合法權(quán)益，請及時向本網(wǎng)提出書面權(quán)利通知，并提供身份證明、權(quán)屬證明、具體鏈接(URL)及詳細(xì)侵權(quán)情況證明。本網(wǎng)在收到上述法律文件后，將會依法盡快移除相關(guān)涉嫌侵權(quán)的內(nèi)容。
相關(guān)文章網(wǎng)友點評
熱門資訊
精彩導(dǎo)讀
關(guān)注我們
