洗凈液CMP1400S

特性與賣點：高PH值，有效去除有機和無機微粒、低泡、易漂洗，極低金屬離子含量。太陽能晶園研磨后的油脂，研磨拋光劑，無機粉塵，適合半導體回路制造、半導體組件、光刻膠顯影后、CMP前后處理、CVD前后處理洗凈液。

使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波

2、濃度：3-30%

包    裝：20L/桶

洗凈液CMP1406

特性與賣點：高PH值，藍寶石洗凈液，晶園研磨后表面所附著油脂，蠟，研磨拋光劑與粉塵，洗凈力佳，螯和力強，低泡易生物分解，低COD，螯合分解力強，低殘留，易漂洗，耐硬水。

使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波

2、濃度：3-30%

包    裝：20L/桶